他们想绕开禁令进入中国

“正在与日本经产省讨论”

东京国际法律事务所合伙人森幹晴在接受媒体采访时认为，尼康重返中国市场战略，也从另一个侧面反映了日本整个制造业面临的课题——在尖端领域的开发竞争中输给竞争对手，在高附加值领域的竞争中处于劣势，业务规模也呈缩小趋势。企业只能寄望于“低价战略”。

罗国昭说，在全球经济疲软的情况下，尼康所有主力产品线都面临下滑压力，而光刻机是其现在少有的能够扭转经营颓势的业务。罗国昭认为，尼康的i-line技术高于佳能，但又逊于阿斯麦。但在当前光刻机高端业务受限于出口管制的情况下，尼康寻求在i-line技术上推出新品进入中国市场，是“一种聪明的做法”。

8月9日，尼康公布的数据显示，2023财年第二季度，尼康用于生产半导体的光刻机仅卖出4台，而去年同期是8台。分析机构认为，这还只是开始，日本禁令实施后，尼康的光刻机出货量可能会更低，因为向中国出售的减少了。目前尚不清楚佳能的光刻机出货是不是也受到影响。分析机构认为，佳能一样无法独善其身。

展台人员表示，尼康产品线可覆盖生产多种芯片所需的设备。在尼康展台的对面，另一家日本半导体企业瑞萨电子也对其用于生产半导体的关键生产设备进行展示。尽管仍然受制于美国对华半导体出口限制，中国数字经济产业的蓬勃发展仍在吸引国际半导体设备生产商。

SMBC日兴证券高级分析师高矢武称，“为了早日恢复业绩，尼康目前需要扩大光刻机的盈利。尼康的投资一直偏向于先进领域，但长时间以来回报较低，瞄准i-line这个规模可观的市场是正确的战略。”

半导体行业专家、CHIP奇谱科技总编罗国昭13日告诉《环球时报》记者，中国是全球唯一可见增长并有着广阔发展潜力的光刻机市场，若没西方国家的出口管制政策，中国市场规模将更为可观。“而这也是阿斯麦和英伟达三番五次，不愿意放弃中国市场的根本原因”。

《日本经济新闻》的报道称，紧随美国的出口管制政策，日本政府在2023年7月开始限制先进的半导体出口到中国。但对半导体设备生产厂商而言，中国这个巨大的市场绝不可放弃。

在第六届中国国际进口博览会上，《环球时报》记者在尼康展台了解到，尼康此番来华展示介绍的光刻机产品，就是即将在华推出的液浸式扫描光刻机。

与之相比，阿斯麦的光刻机在中国市场却是另一种表现。10月18日，阿斯麦公布了2023年第三季度财报，来自中国的销售额在其全球销售中的比重升至46%，远高于前两个季度的24%和8%。阿斯麦首席财务官解释说，除大部分出货是2022年或更早的订单外，更重要的是阿斯麦发运到中国市场的光刻机是基于成熟技术制程，被允许出口。

尤其对尼康而言，其业绩压力正在不断增加。8月9日，尼康发布财报，预计2023财年公司净利润将同比下降22%，至350亿日元（约合16.8亿元人民币），作为支柱产业的精机业务表现非常低迷。

上世纪90年代之前，曾主导全球市场的尼康和另一家日本光刻机巨头佳能，在与荷兰阿斯麦的竞争中最终落败。2022年全球光刻机市场中，阿斯麦占据全球62%的市场份额，佳能为31%，而尼康只有7%。

罗国昭补充说，尼康光刻机在中国已有一定的保有量，与i-line技术兼容，尼康在中国的老客户可以平滑过渡到新品上。这些都是尼康在中国推出光刻机产品的有利因素。

“尼康需要动作快一点”

为拯救经营颓势，日本光刻机企业打算定制产品，绕开出口管制，重新进入广阔的中国市场以图东山再起。与此同时，另一家日本光刻机巨头佳能也在期待获得来自中国更多的订单。据日本媒体报道，和2020年相比，佳能计划在中国增加50%的技术人员，并在上海等地扩充客户服务队伍。

《日本经济新闻》认为，在出口管制的情况下，能否通过开拓中国市场来挽回局面，将成为尼康是否可以实现复苏的试金石。

尼康打算再次瞄准中国市场，但这样做风险并不小。《日本经济新闻》称，尼康也在“一边担心违规，一边采取措施”。尼康精机业务本部部长滨谷正人表示，“我们正在与经济产业省讨论，（研制新产品进入中国）应该没问题。我们将在中国积极推动销售。”

罗国昭认为，半导体市场竞争激烈，同时不可控因素比较多。地缘政治会对尼康的计划带来影响。比如，美国对华关系缓和，先进半导体的出口管制放松，阿斯麦高端产品再次进入中国，那么尼康现在的计划就可能打了水漂。罗国昭说，“如果想在中国市场收复一定的份额，尼康需要动作快一点。”

据《日本经济新闻》近日报道，日企尼康计划2024年面向市场推出光刻机新品，使用上世纪90年代初的“i-line”老一代光源技术，来绕开日本对先进半导体进行的出口管制。报道称，这是尼康时隔25年后第一次推出新产品。

今年6月，参观者在中国国际半导体设备制造展览会上了解尼康光刻机情况。（视觉中国）

按照光源划分，市面上主流的光刻机可分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五种。国金证券一位分析师认为，尽管i-line光刻技术已经被深紫外光刻技术所替代，但在针对部分旧款半导体工艺和制造流程、MEMS（微机电系统）制造、显示器制造、大型光掩模上仍然需要使用i-line光刻机。

进博会上的光刻机展品

他还解释说，“即使被列为出口管制，也并非一概不能出口。在设备性能和客户用途等条件上满足规定，对中国出口是被允许的。”