芯源微新签订单大幅增长净利增1(6倍,自主研发获实质性突破投入增逾60)
那么,2022年的业绩是否健康?截至2022年底,芯源微的应收票据及应收账款为2.89亿元,较2021年的2.68亿元增长7.84%,大幅低于营业收入增速。公司实现的经营现金流净额为1.93亿元,2020年、2021年分别为-0.72亿元、-2.18亿元。2022年,公司的经营现金流明显改善。
季度数据显示,公司经营业绩整体良好。去年一、二、三、四季度,公司实现的营业收入分别为1.84亿元、3.21亿元、3.92亿元、4.88亿元,同比增长61.99%、34.97%、99.93%、74.43%。对应的净利润分别为0.32亿元、0.37亿元、0.74亿元、0.57亿元,同比增长398.34%、29.50%、308.63%、135.48%。扣非净利润与净利润的变动趋势基本相同。
截至2022年12月31日,芯源微共获得专利授权245项,其中发明专利171项。
芯源微的自信源于通过自主研发,获得多项实质性突破,多个核心零部件实现了国产替代。
针对2022年加速增长的经营业绩,芯源微解释称,公司产品竞争力不断增强,新签订单规模同比大幅增长。同时,面对疫情带来的不利影响,公司积极采取多种措施保供保产,确保了生产经营活动的正常进行,实现了客户端订单的有序交付及顺利验收,收入规模持续增长。此外,公司集成电路前道晶圆加工领域产品收入实现快速放量,同时保持小尺寸(如LED、化合物半导体等)及集成电路后道先进封装领域产品收入稳步增长,带动利润大幅增长。
半导体行业高景气之下,产业链上的企业芯源微高速成长。
4月17日晚间,芯源微披露的年报显示,2022年度,公司实现营业收入13.85亿元,同比增逾60%,归属于上市公司股东的净利润(以下简称“净利润”)2亿元,同比增长约1.6倍。
2020年、2021年,上市后的第二、三年,公司实现的营业收入分别为3.29亿元、8.29亿元,同比增长54.30%、151.95%,对应的净利润分别为0.49亿元、0.77亿元,同比增长66.79%、58.41%,均为快速增长。
从公开业绩数据看,2016年,公司实现的营业收入、净利润分别为1.48亿元、0.05亿元,实现了盈利。2017年至2019年,公司实现的营业收入分别为1.90亿元、2.10亿元、2.13亿元,对应的净利润分别为0.26亿元、0.30亿元、0.29亿元,低位徘徊。
芯源微的研发投入也增长。2022年,其研发投入同比增逾60%,研发人员薪酬年均增加2.3万。
芯源微的研发也取得重大突破。
芯源微成立于2002年12月,培育蛰伏多年,2019年12月16日通过闯关IPO在科创板挂牌交易。
半导体专用设备供应商芯源微(688037.SH)经营业绩再现高速增长。
本文源自长江商报
2017年,芯源微苦于单一供方垄断,布局了多个核心部件的合作研发和国产替代,经过长期多轮次的改进升级验证应用,核心部件实现了国产替代。这些替代,保证供应链的自主可控的同时,也将大幅降低成本,提高整机产品竞争力。
近几年,伴随着半导体行业高景气,芯源微的经营业绩高速增长。2020年、2021年,公司的净利润同比增速均在60%左右。
研发获得重大突破,新品上市,芯源微前道涂胶显影机签单实现了快速放量,其中offline、I-line、KrF机台均实现批量销售。浸没式机台已陆续获得国内多家知名厂商订单,超高温Barc机台也成功实现了客户导入。去年四季度,首台浸没式高产能涂胶显影机在国内某知名客户处完成验证,已顺利实现验收。
根据年报,2022年,芯源微实现营业收入13.85亿元,同比增长67.12%,净利润、扣除非经常性损益的净利润(以下简称“扣非净利润”)分别为2亿元、1.37亿元,同比增长158.77%、114.99%。
目前,国内前道涂胶显影设备市场仍然被日本东京电子高度垄断。芯源微称,其是国内唯一可以提供量产型前道涂胶显影机的设备商,在国内市场份额有望实现快速提升。
多项关键技术取得突破
营收净利连续三年高增长
综上所述,2020年至2022年,公司的营业收入、净利润实现了连续三年高速增长。相较2020年、2021年,2022年的净利润同比增速明显提升。
去年12月,芯源微发布了全新产品——浸没式高产能涂胶显影机。作为芯源微前道涂胶显影机第三代机型,机台应用了其独创的对称分布高产能架构,搭载其自主研发的专用机械手,可大幅提升整机的机械传送产能和传送精度,能够匹配全球主流光刻机联机生产。公司的新产品可以覆盖国内28nm及以上所有光刻工艺节点,实现全面国产替代。
芯源微称,2022年,公司产品竞争力不断增强,新签订单规模同比大幅增长。公司乐观预计,未来,公司业绩还将保持快速增长。
年报披露,2022年,芯源微生产的前道涂胶显影设备在多项关键技术方面取得突破,成功掌握了超高温度与超高精度烘烤固化技术、自动光学缺陷检测技术等核心技术,可满足更高等级的工艺需求,公司在WEE边缘曝光技术、边缘旋涂技术方面实现了工艺突破,可实现核心腔体小型化并为客户节省光刻胶。此外,公司在NTD负显影技术方面也取得良好进展,为下一代高端工艺提供更丰富和先进的解决方案。
芯源微持续加大研发投入,2022年,公司研发投入为1.52亿元,同比增长64.47%,研发投入占营业收入的比重为10.99%。
此外,公司前道物理清洗机此前已打破国外垄断,已广泛应用于中芯国际、上海华力、青岛芯恩、广州粤芯、上海积塔、厦门士兰等一线大厂,已成为国内晶圆厂baseline产品。
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